ニュース2026.11.11
11月27日(金)13:00〜17:00に、グローバルネット㈱がセミナー「先端半導体プロセスにおける精密洗浄のサイエンスと技術動向」を開催。
講演4件。半導体洗浄のサイエンスと課題解決、先端デバイスを支える洗浄技術の基礎、物理洗浄(液滴衝突・流動・静電気現象)のメカニズムと高性能化、CMP後洗浄技術と先端デバイスへの対応。
東京都千代田区・プラザエフおよびオンライン(Zoom)にて。
詳細は https://global-net.co.jp/archives/13852 に。
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