SOIウェハー

同社は酸化膜付ウェハーの量産として、20μmまで厚膜形成が可能。該当技術を活かしてSOIウェハーも製造している。加工から検査にいたるまでを社内一貫工程で行うため、高性能・高品質の製品を提供でき、また枚葉生産であることから量産のみならず少量生産も可能であり、酸化膜同様に実験・試作段階からユーザーの希望に沿ったカスタム制作に対応する。

SOIの中でも特殊であるCavity SOIウェハーは、支持基盤やBOX層へのCavity形成などユーザーの要望に応じての形成が可能であるとともに、ユーザーのMEMSデバイス製造の工数削減や歩留率の向上に大きく寄与し、大幅なコスト削減を可能とする。

酸化膜加工において膜厚が厚く、かつ高い品質に基づく実績から、半導体業界に広く顧客を持つ。SOIにおいては左記に加えてMEMSメーカーを中心に国内外に広く販路を持つ。またSOIの構成のうちBOX層と呼ばれる熱酸化膜を厚く出来る特徴を持つことから、パワーIC向けでの基板としても多くの実績を有する。