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基板材料・副資材 2017.05.31

真空環境とフォトレジストが不要で100℃以下のプロセスでも可能なダイレクトパターニングめっき技術を開発

基板の窓口編集部

真空環境とフォトレジストが不要で100℃以下のプロセスでも可能なダイレクトパターニングめっき技術を開発

日本エレクトロプレイティング・エンジニヤース(株)は、独自に開発した表面処理薬液(感光性プライマー、コロイドキャタリスト)を用いて、新たなダイレクトパターニングめっき技術を開発した。本技術では、真空環境とフォトレジスト(※1)が不要かつ、100℃以下の低温のプロセスで低抵抗な微細配線を、多種多様な素材に対して直接形成することが可能である。

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基板の窓口編集部

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