ウェハー洗浄装置 ParticleClean

ウェハー洗浄装置 ParticleCleanはスクラブ洗浄と二流体洗浄をあわせ持った卓上型の洗浄装置である。対象物を装置内のチャックに載せプロセスを設定するだけで、洗浄から乾燥までの一連のプロセスを自動で行うことが可能となる。シンプルな設計により操作は簡略されており、洗浄効果についてもユーザーから高い評価を得ている。

ウェハー等に付着した汚れを落とすために手洗いしていた手間を削減。またブラシで擦り洗いをするスクラブ洗浄や高圧ミストで噴射する二流体洗浄により、手洗いでは取り切れないパーティクルが除去され、高レベルの洗浄効果を実現している。 洗浄対象物の材質に合わせて純水または洗剤の使用を選択可能である。

販売開始後2年、現在10社程の企業や大学へ導入されている。 CMP後にシリコンウェハーに付着した研磨剤を除去するための洗浄や、SiC、GaN、サファイアウェハーの洗浄にも使用されている。また脆くてダメージが入りやすいGaAsやInPといった化合物半導体の洗浄に利用の実績も有する。