2024.01.31
超低熱ダメージPECVD装置「Capella」、超低プラズマダメージ中性粒子ビームエッチャー
SPPテクノロジーズ株式会社
従来型プラズマ装置に比べ著しい低ダメージを実現
超低温PECVD装置「Capella」は低温100℃の成膜環境でも従来機「Cetus」による 300℃成膜と同等の高品質の膜質を実現する（SiO2膜、SiN膜）。熱に弱い材料上への成膜が可能である。
同製品のエッチング装置、中性粒子ビームエッチャーはプラズマにより発生するイオンやUV光を遮蔽する構造により、従来型プラズマ装置に比べ著しい低ダメージを実現した。
同製品はセミコンジャパン2023にて発表された新製品である。
