長州産業株式会社は、誘導加熱方式蒸着源「IHES™」と対向ターゲット方式「ミラートロンスパッタ装置」を紹介した。
IHES™は、独自のEV-ALLるつぼと誘導加熱を組み合わせ、抵抗加熱方式に比べ、卓越したレート安定性と膜厚の再現性、均一性を実現する。これにより、大学や研究機関における実験条件のばらつきを低減し、研究成果を出しやすくする。また、ミラートロンスパッタ装置は、対向ターゲット構造により低プラズマダメージ、低基板温度での成膜を可能にし、有機ELデバイスやペロブスカイト太陽電池などの最先端分野における性能低下の課題解決に貢献する。同社は、これら装置により有機ELやペロブスカイト太陽電池の研究開発・製造分野での実績を拡大している。