オフコンタクト露光とは
off contact exposure
感光性レジストを用いてパターンを露光する際、マスクをレジストに接触させない方法である。プロキシミティ露光やプロジェクション露光がこれに含まれる。マスクの保持や光源の平行度が課題となるほか、基材のそりやねじれ、大型板や両面露光方式への対応などに難点がある。
off contact exposure
感光性レジストを用いてパターンを露光する際、マスクをレジストに接触させない方法である。プロキシミティ露光やプロジェクション露光がこれに含まれる。マスクの保持や光源の平行度が課題となるほか、基材のそりやねじれ、大型板や両面露光方式への対応などに難点がある。