スパッタリングとは
sputtering
真空中で電界により加速された正イオンなどの高エネルギー粒子を、膜形成材料となる固体表面に衝突させ、その際に弾き出された原子や分子を被着材上に析出させて薄膜を形成する方法である。この方法で作られる膜を薄膜と呼ぶ。正イオンとしてはアルゴンイオンが多用されている。
sputtering
真空中で電界により加速された正イオンなどの高エネルギー粒子を、膜形成材料となる固体表面に衝突させ、その際に弾き出された原子や分子を被着材上に析出させて薄膜を形成する方法である。この方法で作られる膜を薄膜と呼ぶ。正イオンとしてはアルゴンイオンが多用されている。