ホールドタイムとは
hold time
ドライフィルムによりレジスト層を形成する際、ラミネート後から露光までの間に一定時間放置し、レジストを熟成させて基板との密着性を向上させる工程である。近年はドライフィルム性能の向上により、ホールドタイムを必要としない材料も開発されている。
hold time
ドライフィルムによりレジスト層を形成する際、ラミネート後から露光までの間に一定時間放置し、レジストを熟成させて基板との密着性を向上させる工程である。近年はドライフィルム性能の向上により、ホールドタイムを必要としない材料も開発されている。