化学的気相成長法とは

chemical vapor deposition

高温下における熱分解、水素還元、酸化、置換などの気相反応を利用して、固体表面に薄膜を形成する方法であり、CVD法とも呼ばれる。常圧法と減圧法に分類され、減圧下で行う熱CVD法、プラズマCVD法、光CVD法などのバリエーションがある。LSI製造や工具の表面処理などに用いられる。なお、蒸着やスパッタなどは物理的気相成長法と区別される。