エッチファクタとは
etch factor
導体の厚さ方向のエッチング深さをT、幅方向のエッチング量をDとしたとき、エッチファクタは次式で定義される。
エッチファクタ = T / D
また、エッチングによって形成された導体の側面と絶縁体の間の角度をθとしたとき、
T / D = tan θ
とも表せる。エッチファクタの値が大きいほど、導体側面は絶縁体に対して垂直に近くなり、結果として高精度なパターン形成が可能であることを意味する。
etch factor
導体の厚さ方向のエッチング深さをT、幅方向のエッチング量をDとしたとき、エッチファクタは次式で定義される。
エッチファクタ = T / D
また、エッチングによって形成された導体の側面と絶縁体の間の角度をθとしたとき、
T / D = tan θ
とも表せる。エッチファクタの値が大きいほど、導体側面は絶縁体に対して垂直に近くなり、結果として高精度なパターン形成が可能であることを意味する。